拉姆研究公司（Lam Research）近日宣布推出业界首款专为大规模生产设计的脉冲激光沉积（PLD）机台——Pulsus，为下一代微机电系统（MEMS）麦克风和射频（RF）滤波器的制造提供了革命性的解决方案。

Pulsus PLD系统采用了创新技术，能够沉积出高达40%钪含量的氮化铝钪（AlScN）薄膜，大幅提升RF滤波器和MEMS麦克风的性能表现。AlScN薄膜的压电系数是现有溅射薄膜的2倍，不仅能提高电能转换效率，还能推动无铅压电材料取代传统的铅锆钛酸盐（PZT）。

Lam Research客户服务事业群副总裁兼总经理Chris Carter表示：“我们利用在特殊半导体技术方面的专业知识，结合业界公认的沉积能力，以及与CEA-Leti的战略合作，在我们经过生产验证的2300平台上，为客户带来了这项改变行业规则的解决方案。”

Pulsus系统采用密集的激光脉冲轰击目标材料，产生稳定、致密的等离子体羽流，并以薄层形式沉积在晶圆上。这种PLD制程可确保获得高品质、均匀的薄膜，并精确控制厚度和应力，在批量制造方面具有独特优势。

相比传统沉积方法，Pulsus的成本效益显著，每片晶圆的生产成本大幅降低。这有助于提高制造良率，加速产品路线图的发展。Pulsus不仅能沉积AlScN，还能应用于其他复杂多元素材料，满足特殊制程市场如AR/VR和量子运算的需求。

射频滤波器在5G、WiFi 6和WiFi 6E系统中扮演关键角色，通过增加网络可处理的频段数量，同时改善每个用户的体验。MEMS麦克风因具有高信噪比而备受推崇，能准确捕捉低沉声音，对于支持5G元件中的语音控制和降噪功能至关重要。Pulsus提供的高性能薄膜技术，将有助于推动这些先进元件的发展。

凭借Pulsus PLD系统的突破性能力，Lam Research再次展现其在特殊制程技术创新方面的领导地位，为5G和未来MEMS应用开启了崭新纪元。