7月26日，青岛四方思锐智能技术有限公司（以下简称“思锐智能”)宣布，思锐智能（7月）与英诺赛科签订了一项新的ALD设备采购协议。根据该协议，思锐智能将为英诺赛科供应用于氮化镓半导体晶圆制造前道工艺的Transform系列量产型ALD沉积镀膜设备，支持其8英寸硅基氮化镓晶圆产线的扩充。

  据悉，作为一种通用型技术，ALD镀膜工艺对于氮化镓功率器件的性能提升有着显著的增益，例如ALD薄膜可用于高质量的栅极介电叠层，有助于提升器件击穿电压、漏电抑制和阻水疏氧效果。思锐智能Transform系列量产型ALD沉积镀膜设备支持配置多个ALD工艺模块，兼容热法及等离子体功能，可为应对不断增长的产能和新的应用而进行升级，目前已进入欧洲、北美、日本和中国大陆及台湾地区知名厂商，并实现重复订单。