英特尔4月11 日宣布启动美国奥勒冈州 D1X 工厂的扩建计划,以加快技术研发,重夺在半导体产业的领先地位。

  D1X 是英特尔晶片技术研发的重要据点,几乎所有先进工艺开发作业都位于此地。该公司在 D1X 工厂扩建计划上斥资 30 亿美元,扩建面积 27 万平方英尺,将使工厂规模增加 20%。

  英特尔高级副总裁 Sanjay Natarajan 表示,D1X 实际上是一座巨型实验室,扩建后将更有能力研发多种制造方法,并在全球其他工厂复制这种生产模式。

  半导体工艺技术的进步,主要由工艺节点来衡量,英特尔近年来遭遇技术瓶颈,代工生产方面表现远落后台积电和三星电子等竞争对手,并让后两者的客户如英伟达和 AMD得以推出更具竞争力的产品,进而打压英特尔的获利空间并限制成长。

  作为 IDM2.0 策略的一部分,英特尔致力于强化晶圆代工领域发展,盼能跟上竞争对手台积电和三星电子的脚步,在 2025 年前推进五个工艺节点。

  英特尔执行长基辛格(Pat Gelsinger) 此前承诺,将投资 200 亿美元,在美国俄亥俄州设立两座晶圆厂,并在未来十年内砸下 800 亿 欧元 ,于欧洲打造半导体供应链。

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